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2021-3-23 12:31:57
作为半导体制造与先进晶圆级封装领域中的卓越设备供应商，永信贵宾会官网半导体设备今日宣布，为其不停生长的300mm Ultra Fn立式炉干法工艺设备产物系列，增加了以下半导体制造工艺：非掺杂的多晶硅沉积、掺杂的多晶硅沉积、栅极氧化物沉积、高温氧化和高温退火 。永信贵宾会官网将于3月17日至19日在上海新国际博览中心举行的SEMICON China 2021的3659号展位上展示这些技术 。
永信贵宾会官网先前已宣布了应用于氧化物、氮化硅（SiN）低压化学气相沉积（LPCVD）和合金退火工艺功效的立式炉系统，基于该可配置的立式炉平台，永信贵宾会官网开发了上述新功效 。支持这些新应用的立式炉设备现已交付或预计陆续于2021年上半年内交付到客户端 。
“我们的战略始终是找到半导体制造行业中具有高增长潜力的市场和应用，而且与我们的客户合作，开发出先进技术来解决这些问题 。”永信贵宾会官网半导体设备董事长王晖体现：“现在，我们能够进行80％以上的批式热工艺，包罗用于SiN，HTO的LPCVD工艺，非掺杂多晶硅和掺杂多晶硅沉积，栅极氧化物沉积工艺，高达1200摄氏度的超高温氧化和退火工艺 。 这一新产物线的迅速导入，也进一步证明了我们与核心客户合作战略的乐成 。"
随着半导体器件体积的不停缩小和庞大度的增加，Ultra Fn系统的设计始终是为了寻求满足客户需求的更佳解决方案 。当今的器件设计的高庞大度、微小几何尺寸，对热工艺的温度控制的均一性与稳定性提出了高要求，这对晶圆良率至关重要 。为了满足这些要求，Ultra Fn加热器开发了控制算法，使该平台具有稳定的温度控制性能 。
永信贵宾会官网对其可灵活配置的Ultra Fn设备进行了功效扩展，仅对部门�？楹徒峁菇辛艘恍└募纯墒视糜谡庑┬鹿ひ沼τ� 。该可配置的系统设计，与永信贵宾会官网现有的氧化物、氮化物沉积系统大部门硬件可通用，从而降低了总成本 。 该系统可便捷地更换组件，以实现差异客户的定制化工艺需求 。
永信贵宾会官网的第一台SiN LPCVD已于2020年初交付给一家重要的逻辑制造客户，并在该工厂进行了大规模量产验证 。 同时，另一台微托级超高真空功效的合金退火工艺立式炉设备已于2020年底交付给一家功率器件制造客户，并已完成生产能力的验证 。而此次宣布的其他新功效的设备也陆续开始在客户端进行测试，预计在2021年内取得验证结果 。
